| 发布企业：鑫有研电子科技(北京）有限公司
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概 要
真空蒸着よりも緻密で高精度な薄膜を再現性よく形成し、真空蒸着では不可能だった高融点物質の成膜も可能なスパッタリング装置です。
特 長
１． 操作が簡単で試料の装置およびコーティング処理が短時間でできます。
２． コーティング時間を設定してスイッチボタンを押すだけです。
仕 様
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標準配件 Dia.50mm Au1個（镀膜用）
Dia.50mm Al1個（刻蚀用） Dia.100mm Au1個（镀膜用）
Dia.100mm Al1個（刻蚀用）
試料台 Dia.70mm Dia.100mm
（高度調節範囲 15mm、20mm、60mm）
チャンバー Dia.120mm、120mm(D)不锈钢制 Dia.240mm、240mm(D) 不锈钢制
油旋片泵 G-20DA型（20 L/min） G-100D型（100 L/min）オプション
高圧電源 １kV／0～20mA（带電流計、内置安全电路）
镀膜方式 AC／DC Sputtering
刻蚀方式 AC／DC Sputtering
时间 0～15min、連続可変
气体調整機構 针阀
所要電力 単相 100V 0.4kVA 単相 100V 0.5kVA
外型尺寸 160mm(W)×365mm(D)×317mm(H)
8.5kg 282mm(W)×485mm(D)×440mm(H)
20kg
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